|
| 位置：首頁(yè) -> 產(chǎn)品 -> 電器設(shè)備 -> 其它電器設(shè)備 |
| PECVD化學(xué)氣相淀積控制器 |
|
 |
|
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||
 添加到收藏夾
 點(diǎn)擊發(fā)郵件咨詢
 舉報(bào)此信息
 收藏到用戶中心
|
| 聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)說明在東北制造網(wǎng)上看到的，謝謝！ |
 微信分享 |
|
|||
| 關(guān)鍵字：PECVD化學(xué)氣相淀積控制器 dbzz
PECVD化學(xué)氣相淀積控制器用于氮化硅淀積設(shè)備的控制,是一部單腔制程的電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，適用于 200mm 晶圓制造以及Ⅲ-Ⅴ族晶圓制程，可沉積制造薄膜包括氮化硅(SiNX)和氮化硅氧化硅(SiO2) 碳化硅 (SiC) 等高質(zhì)量薄膜沉積。
PECVD化學(xué)氣相淀積控制器適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)制程；為了順應(yīng)批次生產(chǎn)之?dāng)?shù)量擴(kuò)充，本公司更提供 18 吋大面積之尺寸適用 Ⅲ-Ⅴ 族晶圓制程 2 吋芯片可達(dá) 42 片，以及大陽(yáng)能電池相關(guān)制程之應(yīng)用。
PECVD化學(xué)氣相淀積控制器擁有良好之均勻性 (<3%) 以及半導(dǎo)體制造過程中所需的階梯覆蓋及隙縫填補(bǔ)能力，可應(yīng)用在保護(hù)層、隔離層和介電絕緣層沉積以及光罩 (hard mask) 等制程應(yīng)用，提供 MMIC、VCSEL、藍(lán)光 LED、LD 等光電與通訊半導(dǎo)體組件以及太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的必要制程設(shè)備。
參考網(wǎng)址：http://www.jlgw.com |
| 最新展會(huì) |
| 活躍企業(yè) | 更多 |
| 網(wǎng)站首頁(yè) - 關(guān)于我們 - 使用協(xié)議 - 免責(zé)條款 - 版權(quán)隱私 - 網(wǎng)站地圖 - 友情鏈接 - 廣告服務(wù) - 會(huì)員服務(wù) - 免費(fèi)注冊(cè) - 聯(lián)系方式 | ||||||||
| 問題請(qǐng)通過在線提問反饋 | 在線客戶QQ：105452034 | 收費(fèi)會(huì)員及廣告咨詢電話13332201705 技術(shù)支持：遼寧衡駿節(jié)能科技有限公司 | ||||||||
| Copyright 2007- dbzz.net All Rights Reserved 東北制造網(wǎng)(東北地區(qū)唯一制造業(yè)網(wǎng)上平臺(tái)) 版權(quán)所有 遼ICP備2021008091號(hào) 遼公網(wǎng)安備21021702000105 | ||||||||
| 為獲得最佳瀏覽效果，建議使用IE7以上，或Firefox7以上瀏覽器 | ||||||||
|
