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E光作用原理

   E光治療頭的核心技術主要有三點：雙極射頻＋低能量脈沖光能＋表皮冷卻

    E光技術中光能引導RF（射頻）能量深入集中，配合表皮冷卻技術，將射頻推向真皮組織，在光能較低的情況下，針對整個真皮層和結締組織發揮作用，刺激不同深度的膠原蛋白重新排列和生長；通過特殊的強光照射皮膚，使皮膚組織由內至外地改變，變得細膩、有光澤、有彈性的一種無創性技術。脈沖光治療原理是通過低能量、較柔和的全光譜強光，直接作用于皮膚的異常血管色素基團，徹底去除皮膚的各種瑕疵；同時刺激膠原蛋白的增生，改善其質地和彈性。

治療范圍
　　1、祛皺／拉皮／提升：利用IPL和RF聯合技術（E光），提供深部真皮層理想溫升分布，針對整個真皮層和結締組織發揮作用刺激不同深度的膠原增生重而達到治療效果。　 
　　 2、祛深層斑／祛表皮斑／美白嫩膚／祛紅血絲：強脈沖光和射頻同時釋放能量，利用皮　膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異讓作用深度深的E能作用于表皮　和真皮層的各種病變組織，由于光能遠遠低于傳統IPL設備，可在不損傷表皮的前提下，讓表皮層真皮層各種色素性和血管性病變組織吸收更多的能量，更好的祛除這些病變組織，同時刺激深層及淺層膠原組織增生，恢復皮膚彈性，使皮膚得到整體改善。 
　　 3、痤瘡治療：E光可精確作用于皮脂腺和痤瘡等靶組織，利用短波殺死痤瘡丙酸桿菌，利用紅外光和射　頻的聯合作用降低皮脂腺活性，收到令人振奮的效果。 
　　 4、脫淺細毛／脫粗黑毛：E光在輸出強光的同時，還依靠作用深度達皮下15MM的射頻能量直接作用于毛囊，而不單純依賴毛干傳導，所以對細小淺色，甚至金色、白色的毛發都有很好的效果。

技術參數 

高頻電磁波能量：0-30 J/c㎡

外形尺寸：520X520X1100mm

IPL脈沖能量：0-100 J/c㎡  

光譜范圍：480-1200mm

安全防護：利用阻抗在線測試

光斑尺寸：8×40mm

凈重：55kg
電源要求：220VAC±10% 50Hz 10A 

 E光特點

中英文操作系統，自由切換，操作簡潔
可拆卸光頭（標配3個濾波片），更換耗材更方便 

能實現三種工作模式：E光模式(RF+IPL)、冰電波拉皮模式（RF）、彩光嫩膚模式（IPL），一臺設備當三臺設備用

制冷開關可控，制冷量可調

8個觸摸按鍵設置，功能更全面，操作更方便

治療特點

 無痛感、可無須涂抹麻醉藥膏

 采漸進式改善膚質

 非破壞性，采用色素凝結原理 

 幾無反黑現象出現 

 微結痂現象，無滲出液

 可正常洗臉、上妝