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本機是蒸發和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃及金屬材料表面鍍制高檔金屬化裝飾膜。
由于鍍膜室為立式容器，所以它既具有臥式鍍膜機的一切優點，又利于自重較大的鍍件裝卡，更可方便地實現自動化
生產線，是替代傳統濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。
特點
* 配用改進型高真空排氣系統，抽速快、效率高、節電、降噪和延長泵的使用壽命
* 實現蒸發鍍全自動控制，磁控濺射半自動控制，操作簡便，工作可靠
* 備有六軸公、自轉工件架
* 蒸發鍍應用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠
* 磁控濺射應用鍍層材料廣泛，各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料
* 結構緊湊、占地面積小
主要技術參數
* 鍍膜室尺寸：φ1400 mm×2000mm（立式）
* 工件架最大有效裝載尺寸：φ450 mm×1300mm×6軸
* 極限真空度：2~2.5×10-3Pa
* 恢復真空度：從大氣抽至2×10-3Pa，小于10分鐘（清潔、空載）
* 蒸發功率：20Kw（Max）
* 濺射功率：40Kw（Max）
* 總動力配備：
A）電壓：300V三相，名義總功率75KW
B）冷卻水：壓力0.4~0.6MPa、水溫≤250C、耗水量6T/h
C）壓縮空氣：壓力0.5~0.7MPa